asml加入euv llc后，享受到的研究成果大大加快了其euv的研发进度，2005年摩尔定律陷入停滞，极紫外光刻技术被认为是制程突破10nm制程工艺的关键，但由于euv光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限，光源功率要求极高，透镜和反射镜系统也极致精密，还需要真空环境，配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高，别说是对日本与荷兰，就算是科技全球第一的美国，举国之力独自突破这项世界最尖端的技术，也是痴人说梦。

由于技术难度极高，需要巨额的研发资金，尼康和佳能只得选择放弃，彻底沦为中低端光刻机厂商。

asml成为唯一的候选人！

asml以23%的股权得到英特尔、三星和台积电的53亿欧元的研发euv光刻机的资金，而这三家客户也因此获得优先供货权。

asml也成为美国大财团控股的荷兰高科技公司！

从1997年，英特尔和美国能源部牵头成立euv llc开始，到孙健重生前的2017年，asml才成功量产第一台euv光刻机，集中全球物理学、材料学和精密制造极限的技术成果，还用了整整20年的时间！

euv光刻机研制成功之难难于上青山不是一句调侃！

孙健预测再投入1亿美元，汤普森团队就是能研究成功euv，在euv光刻机这种人类技术最复杂的宏伟工程面前，gca即使耗费几十亿美元的研发经费，也不可能独自生产成功，要集中全球最顶尖的物理学、材料学和精密制造等科技成果，也只有美国才有这样的组织能力。

gca生产高端光刻机，bsec生产中低端光刻机，这是收购gca时，孙健给两家公司的定位，不以他的意志为转移。

gca重获新生，asml将失去进入euv llc的机会，asml独自研制成功euv光刻机如同痴人说梦话，bsec也不能！

苏联解体后，以俄罗斯为首的东欧国家已经倒向西方阵营，同我们友好的国家，其经济和科技实力都不强，在如今的科技和经济条件下，举国之力，bsec研制euv光刻机，没有20年，也看不到成果。

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